USE OF 111-TRICHLOROETHANE AS AN OPTIMIZED ADDITIVE TO IMPROVE SILICON THERMAL-OXIDATION TECHNOLOGY

被引:29
作者
JANSSENS, EJ [1 ]
DECLERCK, GJ [1 ]
机构
[1] CATHOLIC UNIV LEUVEN,DEPT ELEKTROTECH,B-3030 HEVERLE,BELGIUM
关键词
D O I
10.1149/1.2131275
中图分类号
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
081704 ;
摘要
引用
收藏
页码:1696 / 1703
页数:8
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