AUTOMATIC RF SPUTTERING SYSTEM

被引：4

作者：

HALPERIN, A

SILANO, P

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1978年 / 15卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.569417

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：116 / 118

页数：3

共 5 条

CHRISTENSEN, O ;

JENSEN, P .

JOURNAL OF PHYSICS E-SCIENTIFIC INSTRUMENTS, 1972, 5 (01) :86-+

[2] ROLE OF DC SELF-BIAS POTENTIAL IN CONTROL OF RF SPUTTERING [J].

LAMONT, LT ;

TURNER, FT .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1974, 11 (01) :47-51

[3]

LOGAN JS, 1967, IBM J RES DEVELOP, V14, P172

[4]

MAZZA NM, 1967, IBM J RES DEVELOP, V14, P192

VOSSEN, JL ;

ONEILL, JJ .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1975, 12 (05) :1052-1057