BARRIER HEIGHTS AND ELECTRICAL-PROPERTIES OF INTIMATE METAL-ALGAAS JUNCTIONS

被引:45
作者
EIZENBERG, M [1 ]
HEIBLUM, M [1 ]
NATHAN, MI [1 ]
BRASLAU, N [1 ]
MOONEY, PM [1 ]
机构
[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598
关键词
D O I
10.1063/1.338085
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:1516 / 1522
页数:7
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