TEMPERATURE-DEPENDENCE OF REACTIVE ION ETCHING OF GAAS WITH CCL2F2-O-2

被引:25
作者
PEARTON, SJ [1 ]
EMERSON, AB [1 ]
CHAKRABARTI, UK [1 ]
LANE, E [1 ]
JONES, KS [1 ]
SHORT, KT [1 ]
WHITE, AE [1 ]
FULLOWAN, TR [1 ]
机构
[1] UNIV FLORIDA,GAINESVILLE,FL 32611
关键词
D O I
10.1063/1.344048
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:3839 / 3849
页数:11
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