GROWTH CHARACTERISTICS OF ALPHA-SILICON CARBIDE .1. CHEMICAL VAPOR DEPOSITION

被引：26

作者：

HARRIS, JM

GATOS, HC

WITT, AF

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2408041

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：335 / &

共 17 条

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