DIFFERENTIAL SPUTTERING OF MGO/AU CERMET FILMS AND ITS APPLICATION TO HIGH-YIELD SECONDARY-ELECTRON EMITTERS

被引：38

作者：

HENRICH, VE ^{[1
]}

FAN, JCC ^{[1
]}

机构：

[1] MIT,LINCOLN LAB,LEXINGTON,MA 02173

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0039-6028(74)90009-0

中图分类号：

O64 [物理化学（理论化学）、化学物理学];

学科分类号：

070304 ; 081704 ;

摘要：

引用

页码：139 / 156

页数：18

共 18 条

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