DEPTH RESOLUTION OF SPUTTER PROFILING INVESTIGATED BY COMBINED AUGER-X-RAY ANALYSIS OF THIN-FILMS

被引:29
作者
ETZKORN, HW
KIRSCHNER, J
机构
来源
NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS | 1980年 / 168卷 / 1-3期
关键词
D O I
10.1016/0029-554X(80)91282-3
中图分类号
TH7 [仪器、仪表];
学科分类号
0804 ; 080401 ; 081102 ;
摘要
引用
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页码:395 / 398
页数:4
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