HOLLOW-CATHODE PLASMA ASSISTED CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF DIAMOND

被引:46
作者
SINGH, B
MESKER, OR
LEVINE, AW
ARIE, Y
机构
关键词
D O I
10.1063/1.99049
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:1658 / 1660
页数:3
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