WAFER CHARGEUP STUDY ON THE PR-80 HIGH-CURRENT ION-IMPLANTATION MACHINE

被引：10

作者：

NAGAI, N

KAWAI, T

NAITO, M

NISHIGAMI, Y

FUJISAWA, H

NISHIKAWA, K

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0168-583X(89)90249-8

中图分类号：

TH7 [仪器、仪表];

学科分类号：

0804 ; 080401 ; 081102 ;

摘要：

引用

页码：572 / 575

页数：4

共 4 条

HALL, JM ;

GLAWISCHNIG, H ;

HOLTSCHMIDT, W .

[2] PR-80 HIGH-CURRENT ION-IMPLANTATION MACHINE [J].

KAWAI, T ;

NAITOH, M ;

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NAGAI, N ;

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[3]

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