磁控溅射技术进展及应用(上)

被引：363

作者：

徐万劲

机构：

[1] 北京大学物理学院北京

来源：

现代仪器 | 2005年 / 05期

关键词：

磁控管; 溅射率; 非平衡磁控溅射; 闭合场非平衡磁控溅射; 自溅射;

D O I：

暂无

中图分类号：

TB43 [薄膜技术];

学科分类号：

080101 [一般力学与力学基础];

摘要：

近年来磁控溅射技术的应用日趋广泛,在工业生产和科学研究领域发挥巨大作用。随着对具有各种新型功能的薄膜需求的增加,相应的磁控溅射技术也获得进一步的发展。本文将介绍磁控溅射技术的发展,以及闭合磁场非平衡溅射、高速率溅射及自溅射、中频及脉冲溅射等各种新技术及特点,阐述磁控溅射技术在电子、光学、表面功能薄膜、薄膜发光材料等许多方面的应用。

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