AlN在AlN/VN纳米多层膜中的相转变及其对薄膜力学性能的影响

被引：12

作者：

劳技军

胡晓萍

虞晓江

李戈扬

顾明元

机构：

[1] 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室

来源：

物理学报 | 2003年 / 09期

关键词：

薄膜的力学性能; 外延生长; 亚稳相;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484.2 [薄膜中的力学效应];

学科分类号：

摘要：

采用反应磁控溅射制备了AlN VN纳米多层膜 .研究了多层膜调制周期对AlN生长结构的影响以及纳米多层膜的力学性能 .结果表明 :小周期多层膜中的AlN以亚稳的立方相 (c AlN)存在并与VN形成共格外延生长的超晶格 .薄膜产生硬度和弹性模量升高的超硬效应 .大调制周期下 ,AlN从立方结构转变为稳定的六方相 (h AlN) ,并使多层膜形成纳米晶的“砖墙”型结构 .讨论认为VN的模板作用有利于c AlN的生长 ,但不能显著提高其临界厚度

引用

页码：2259 / 2263

页数：5

共 4 条

[1] 两步压入法——薄膜力学性能的可靠测量方法 [J].