极紫外多层膜技术研究进展

被引:10
作者
张立超
机构
[1] 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室
关键词
极紫外多层膜; 极紫外光刻; 多层膜光栅;
D O I
暂无
中图分类号
O484.41 [];
学科分类号
0803 ;
摘要
在极紫外波段,任何材料都表现出极强的吸收特性,因此,采用多层膜实现高反射率是构建正入射式光学系统的唯一途径。本文总结了极紫外多层膜的发展进程,叙述了制备极紫外多层膜的关键技术(磁控溅射、电子束蒸发、离子束溅射)以及它们涉及的相关设备。由于多层膜反射式光学元件主要应用于极紫外光刻与极紫外天文观测,文中重点讨论了极紫外光刻系统对多层膜性能的要求,镀膜过程中的面形精度和热稳定性等问题;同时介绍了极紫外天文观测中使用的多层膜的特点,特别讨论了多层膜光栅的制备技术和亟待解决的问题。
引用
收藏
页码:554 / 565
页数:12
相关论文
共 14 条
[1]   不同本底真空度下SiC/Mg极紫外多层膜的制备和测试 [J].
朱京涛 ;
黄秋实 ;
白亮 ;
蒋晖 ;
徐敬 ;
王晓强 ;
周洪军 ;
霍同林 ;
王占山 ;
陈玲燕 .
光学精密工程, 2009, 17 (12) :2946-2951
[2]   小型高精度软X射线-极紫外反射率计 [J].
尼启良 ;
刘世界 ;
陈波 .
光学精密工程 , 2008, (10) :1886-1890
[3]   长春光机所软X射线-极紫外波段光学研究(英文) [J].
陈波 ;
尼启良 ;
王君林 .
光学精密工程, 2007, (12) :1862-1868
[4]   Mo/Si软X射线多层膜的界面粗糙度研究 [J].
秦俊岭 ;
邵建达 ;
易葵 ;
周洪军 ;
霍同林 ;
范正修 .
强激光与粒子束, 2007, (05) :763-766
[5]   研究扩散屏障层对Mo/Si多层膜软X射线反射率影响的模拟 [J].
秦俊岭 ;
邵建达 ;
易葵 ;
范正修 .
光子学报, 2007, (02) :300-303
[6]   用不同的Mo靶溅射功率制备Mo/Si多层膜 [J].
秦俊岭 ;
邵建达 ;
易葵 .
强激光与粒子束, 2007, (01) :67-70
[7]  
极紫外与软X射线多层膜偏振元件研究[D]. 王洪昌.同济大学 2007
[8]  
极紫外和软X射线窄带多层膜的研究[D]. 吴文娟.同济大学 2007
[9]  
软X射线多层膜膜厚分布均匀性控制研究[D]. 林炳.中国科学院研究生院(长春光学精密机械与物理研究所) 2002
[10]  
软X射线与极紫外辐射的原理和应用[M]. 科学出版社 , (美)D.阿特伍德著, 2003