基于光刻机全球产业发展状况分析我国光刻机突破路径

被引：9

作者：

郭乾统

李博

机构：

[1] 中国电子信息产业集团有限公司

来源：

关键词：

集成电路; 光刻机; 产业布局; 发展思路;

D O I：

10.19339/j.issn.1674-2583.2021.09.001

中图分类号：

F416.6 [电气、电子工业]; TN305.7 [光刻、掩膜];

学科分类号：

020205 ; 0202 ; 1401 ;

摘要：

阐述光刻机产业发展历史和当前产业现状,分析阿斯麦(ASML)、尼康(NIKON)、佳能(CANON)等企业的成败原因,为我国光刻机产业发展寻求突破路径提供新思路。

引用

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共 4 条

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