等离子体增强磁控溅射离子镀TiN涂层的研究

被引：5

作者：

王玉魁，韩会民，高路斯，廖勇泉

机构：

[1] 大连理工大学材料工程系

来源：

真空 | 1996年 / 01期

关键词：

等离子体增强，磁控溅射，TiN涂层，相组成;

D O I：

10.13385/j.cnki.vacuum.1996.01.004

中图分类号：

TG174.44 [金属复层保护];

学科分类号：

080503 ;

摘要：

利用等离子体增强磁控溅射离子镀（ＰＥＭＳＩＰ）沉积ＴｉＮ涂层，研究涂层的组织结构和性能。随着氮气分压增加涂层相组成朝着富氮相及其含量增加的方向发展。氮气分压对涂层硬度的影响是由膜层相组成变化引起的，由Ｔｉ２Ｎ和ＴｉＮ两相组成的涂层比ＴＩＮ单相涂层的硬度高。由Ｔｉ２Ｎ和ＴｉＮ组成的刀具涂层使切削力下降。

引用

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共 6 条

[1] 大连机车厂刀具PVD涂层取得良好效果 [J].