Ge薄膜特性及其在光子计数成像系统中的应用

被引：11

作者：

赵菲菲 ^{[1
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赵宝升 ^{[1
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张兴华 ^{[1
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李伟 ^{[1
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邹玮 ^{[1
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赛小锋 ^{[1
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韦永林 ^{[1
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机构：

[1] 中国科学院西安光学精密机械研究所光电子学室

[2] 中国科学院研究生院

来源：

光学学报 | 2009年 / 29卷 / 11期

关键词：

薄膜光学; 电荷感应层; 电子束蒸发; 光子计数成像; 电荷感应读出方式;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484.41 [];

学科分类号：

0803 ;

摘要：

利用电子束真空蒸镀方法制作了Ge薄膜,用作感应读出方式光子计数成像系统的电荷感应层,研究了石英玻璃衬底和陶瓷衬底上Ge薄膜的结构特征、表面形态以及各种工艺参数对薄膜电阻的影响。X射线衍射(XRD)测试表明,两种衬底上沉积的Ge薄膜均为立方相非晶态。场发射扫描电子显微镜(FESEM)图像表明石英玻璃衬底上的薄膜致密平整,陶瓷衬底上的薄膜比较粗糙,厚度较薄时,陶瓷晶界处薄膜不连续导致电阻较大。通过改变沉积速率、薄膜厚度及采用退火的方法可以控制薄膜电阻。对比了采用不同阻值电荷感应层时系统的性能,发现阻值对探测器的分辨率影响小,对计数率影响较大。

引用

页码：3236 / 3240

页数：5

共 11 条

[1] 30.4nm极紫外成像探测器的实验研究 [J].