离子束辅助薄膜沉积

被引：10

作者：

张宇峰

张溪文

任兆杏

韩高荣

机构：

[1] 浙江大学硅材料国家重点实验室

[2] 中国科学院等离子体物理研究所

[3] 浙江大学硅材料国家重点实验室杭州

[4] 杭州

[5] 合肥

[6] 杭州

来源：

材料导报 | 2003年 / 11期

关键词：

离子束辅助沉积; 薄膜; 感应耦合等离子体;

D O I：

暂无

中图分类号：

TB43 [薄膜技术];

学科分类号：

0805 ;

摘要：

离子束辅助沉积(IBAD)是在气相沉积的同时辅以离子束轰击的薄膜制备方法,可在低温下合成致密、均匀的薄膜。介绍了IBAD技术的概况,列举了具体应用领域,描述了射频ICP离子源辅助电子束蒸发,最后对IBAD的前景加以评论。

引用

页码：40 / 43

页数：4

共 18 条

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