用于投影光刻机光瞳整形的衍射光学元件设计

被引：18

作者：

胡中华 ^{[1
,2
]}

杨宝喜 ^{[1
,2
]}

朱菁 ^{[1
]}

肖艳芬 ^{[1
]}

曾爱军 ^{[1
,2
]}

黄惠杰 ^{[1
,2
]}

机构：

[1] 中国科学院上海光学精密机械研究所

[2] 中国科学院大学

来源：

中国激光 | 2013年 / 40卷 / 06期

关键词：

光学设计; 衍射光学元件; 混合分区设计; 迭代傅里叶变换; 光瞳整形; 投影光刻;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN305.7 [光刻、掩膜];

学科分类号：

1401 ;

摘要：

投影光刻机普遍采用衍射光学元件(DOE)来产生各种照明模式。针对投影光刻机中准分子激光器空间相干性差的特点,提出了一种混合分区设计方法,并利用该方法对产生传统照明模式、二极照明模式和四极照明模式的DOE进行了具体的设计。仿真分析了采用常规重复分区方法和混合分区方法的两类设计结果,并对它们的远场光强分布进行了详细的比较分析。在相同的局部优化算法条件下,相对于常规重复分区方法的设计结果而言,混合分区方法设计的DOE可使传统照明模式的非均匀性从26.45%下降到1.12%,二极照明模式的非均匀性从19.93%下降到5.45%,四极照明模式的非均匀性从17.73%下降到3.54%。混合分区设计方法无需改变局部优化算法,在保持高衍射效率的同时能大幅度提高光瞳均匀性。

引用

页码：313 / 317

页数：5

共 7 条

[1] 提高激光束整形质量的新方法 [J].