氧化铟锡薄膜的椭偏光谱研究

被引：16

作者：

孙兆奇

曹春斌

宋学萍

蔡琪

机构：

[1] 安徽大学物理与材料科学学院

来源：

光学学报 | 2008年 / 02期

关键词：

薄膜光学; 椭圆偏振术; 光学常量测量; 椭偏建模及解谱; ITO薄膜;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484.41 [];

学科分类号：

0803 ;

摘要：

用溅射法在Si片上制备了厚度为140nm的氧化铟锡(ITO)薄膜。X射线衍射研究表明所制备的薄膜为多晶结构。在1.5～4.5eV范围内对ITO薄膜进行了椭偏测量。分别用德鲁德-洛伦茨谐振子(Drude+Lorenz oscillators)模型、层进模型结合有效介质近似模型对椭偏参量ψ、Δ进行了拟合,得到ITO薄膜的折射指数n的变化范围在1.8～2.6之间,可见光范围内消光系数k接近于零,在350nm波长附近开始明显变化,且随着波长的减小k迅速增加。计算得到直接和间接光学带隙分别是3.8eV和4.2eV。并在1.5～4.5eV段给出一套较为可靠的、具有实用价值的ITO介电常量和光学常量。

引用

页码：403 / 408

页数：6

共 13 条

[1] 1/4波片延迟量的相位调制椭偏测量法 [J].

赵培 ;

吴福全 ;

郝殿中 ;

王礽 ;

任树锋 .

光学学报, 2006, (03) :379-382

[2] 模拟退火法在吸收薄膜的椭偏反演算法中的应用 [J].

廖清君 ;

王植恒 ;

王磊 ;

周传宏 ;

赖成军 ;

刘细成 .

光学学报, 2002, (06) :683-687

[3] 红外增透保护膜系软件设计及应用 [J].

宋建全 ;

刘正堂 ;

耿东生 ;

郑修麟 .

红外技术, 2001, (02) :1-3+7

[4] InO:Sn（ITO）薄膜的光学特性研究 [J].

陈猛 ;

白雪冬 ;

裴志亮 ;

孙超 ;

宫骏 ;

黄荣芳 ;

闻立时 ;

不详 .

金属学报 , 1999, (09) :934-938

[5] Si/Ge应变层超晶格的椭偏光谱 [J].

张瑞智 ;

罗晋生 .

光学学报, 1997, (07) :39-42

[6] 可变入射角波长扫描RPA型椭偏仪的研制 [J].

冯星伟，苏毅，马宏舟，陈良尧，钱佑华 .

光学学报, 1995, (04) :492-498

[7]

固体光谱学[M]. 中国科学技术大学出版社 , 方容川编著, 2001

[8]

Indium–tin-oxide thin film prepared by microwave-enhanced d.c. reactive magnetron sputtering for telecommunication wavelengths[J] . Li-Jian Meng,Eddie Crossan,Andrei Voronov,Frank Placido.Thin Solid Films . 2002 (1)

[9]

Interrelation between nanostructure and optical properties of oxide thin films by spectroscopic ellipsometry[J] . M. Losurdo,D. Barreca,P. Capezzuto,G. Bruno,E. Tondello.Surface & Coatings Technology . 2002

[10]

Spectroscopic ellipsometry studies of index profile of indium tin oxide films prepared by spray pyrolysis[J] . H. El Rhaleb,E. Benamar,M. Rami,J.P. Roger,A. Hakam,A. Ennaoui.Applied Surface Science . 2002 (1)

← 1 2 →