基于双光栅的纳米测量方法

被引：17

作者：

周绍林 ^{[1
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杨勇 ^{[1
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陈旺富 ^{[1
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严伟 ^{[1
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马平 ^{[1
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蒋文波 ^{[1
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胡松 ^{[1
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唐小萍 ^{[1
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机构：

[1] 中国科学院光电技术研究所

[2] 中国科学院研究生院

来源：

光学学报 | 2009年 / 29卷 / 03期

关键词：

纳米测量; 光栅; 干涉; 叠栅条纹;

D O I：

暂无

中图分类号：

O436.1 [干涉与衍射];

学科分类号：

摘要：

针对两个物体或平面的相对位移和间隙的纳米级变化量,提出并研究了一种光栅测量方法。采用两组周期接近的微光栅重叠可以产生一组周期分布的条纹,条纹的周期相对于两光栅周期被大幅度放大,并将光栅间的位移反应在条纹的相位信息中。建立了关于双光栅产生叠栅条纹的复振幅分布的近似理论模型。基于该模型设计了一种能够测量两个平行平面相对位移和间隙的方法。针对光栅移动产生相应条纹的过程进行了数值计算。结果表明,两个平行平面的相对微位移将引起相应条纹的大位移,并且该方法最终能在纳米级以内分辨两平面(物体)的相对位移或者间隙变化量。

引用

页码：702 / 706

页数：5

共 8 条

[1] 大量程纳米级光栅干涉位移测量 [J].