均匀辐照365nm LED光源设计及其在光刻中的应用

被引：4

作者：

王向贤 ^{[1
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汪波 ^{[1
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傅强 ^{[1
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陈漪恺 ^{[1
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胡继刚 ^{[1
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张斗国 ^{[1
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明海 ^{[1
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机构：

[1] 中国科学技术大学光学与光学工程系

[2] 巢湖学院物理与电子科学系

来源：

中国激光 | 2012年 / 39卷 / 04期

基金：

安徽省自然科学基金;

关键词：

光学制造; 紫外发光二极管; 阵列; 光刻;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN312.8 []; TN305.7 [光刻、掩膜];

学科分类号：

0803 ; 1401 ;

摘要：

优化设计了365nm紫外LED点光源阵列、聚焦透镜组的排布,实现了高强度均匀辐照的LED面光源。利用优化后的365nm LED面光源进行了接触式曝光光刻实验,所得刻写图形与掩模板图形一致。提出的基于365nm紫外LED阵列均匀辐照面光源的光刻方法具有结构简单、节能、环保等优势。

引用

页码：220 / 223

页数：4

共 7 条

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