纳米Mo膜的光学特性及最小连续膜厚研究

被引：4

作者：

范平

邵建达

易葵

齐红基

范正修

机构：

[1] 中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术研发中心

[2] 中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术研发中心上海中国科学院研究生院

[3] 北京深圳大学理学院

[4] 广东深圳

[5] 上海

[6] 上海中国科学院研究生院

[7] 北京

来源：

中国激光 | 2005年 / 07期

关键词：

薄膜; 光学特性; 尺寸效应; 纳米Mo膜; 最小连续膜厚;

D O I：

暂无

中图分类号：

TB383 [特种结构材料];

学科分类号：

070205 ; 080501 ; 1406 ;

摘要：

利用Lambda-900分光光度计,在波长为310～1250nm范围内测量了离子束溅射沉积不同厚度纳米Mo膜的反射率和透射率。选定波长为310nm,350nm,400nm,500nm,550nm,632nm,800nm,1200nm时对薄膜的反射率、透射率和吸收率随膜厚变化的关系进行了讨论。实验结果显示,纳米Mo膜的光学特性有明显的尺寸效应。提出将薄膜对光波长为550nm时的反射率和透射率随Mo膜厚度变化关系的交点对应的厚度作为特征厚度,该厚度可认为是纳米Mo膜生长从不连续膜进入连续膜的最小连续膜厚。利用原子力显微镜(AFM)观测膜厚在15.76nm时的表面形貌,此时表面形貌已呈现连续膜的特征。

引用

页码：977 / 981

页数：5

共 14 条

[1] 沉积温度对电子束蒸发沉积ZrO2薄膜性质的影响 [J].