薄膜制备新技术及其应用研究

被引：98

作者：

王学华

薛亦渝

机构：

[1] 武汉化工学院材料科学与工程学院

[2] 武汉理工大学材料科学与工程学院湖北武汉

[3] 湖北武汉

来源：

真空电子技术 | 2003年 / 05期

关键词：

薄膜; 制备技术; 研究进展;

D O I：

10.16540/j.cnki.cn11-2485/tn.2003.05.017

中图分类号：

O484 [薄膜物理学];

学科分类号：

070204 [等离子体物理];

摘要：

综述了近几年国内外在薄膜制备技术方面的研究进展,着重比较了蒸发沉积、溅射沉积、激光沉积、CVD、MBE和Sol Gel等技术的优缺点,分析了这些技术在薄膜制备中应用前景。

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页数：6

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共 14 条

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