Advanced lithography for ULSI

被引：4

作者：

Bokor, J

Neureuther, AR

Oldham, WG

机构：

[1] Dept. of Elec. Eng. and Comp. Sci., University of California, Berkeley, CA

来源：

IEEE CIRCUITS AND DEVICES MAGAZINE | 1996年 / 12卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1109/101.481203

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

[No abstract available]

引用

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