POLYCRYSTALLINE SILICON AS A DIFFUSION SOURCE AND INTERCONNECT LAYER IN I2L REALIZATIONS

被引：8

作者：

MIDDELHOEK, J ^{[1
]}

KOOY, A ^{[1
]}

机构：

[1] TWENTE UNIV TECHNOL,SOLID STATE ELECTR GRP,ENSCHEDE,NETHERLANDS

来源：

关键词：

D O I：

10.1109/JSSC.1977.1050861

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：135 / 138

页数：4

共 5 条

[1]

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