DIRECT OBSERVATION OF DEFECTS IN SI-DOPED AND GE-DOPED GA0.9AL0.1AS EPITAXIAL LAYERS BY TRANSMISSION ELECTRON-MICROSCOPY

被引:19
作者
KOTANI, T [1 ]
UEDA, O [1 ]
AKITA, K [1 ]
NISHITANI, Y [1 ]
KUSUNOKI, T [1 ]
RYUZAN, O [1 ]
机构
[1] FUJITSU LABS LTD,NAKAHARA KU,KAWASAKI,JAPAN
关键词
D O I
10.1016/0022-0248(77)90377-3
中图分类号
O7 [晶体学];
学科分类号
0702 ; 070205 ; 0703 ; 080501 ;
摘要
引用
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页数:8
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