EFFECT OF DRY ETCHING OF A THERMAL OXIDE ON SUBSEQUENT GROWTH AND PROPERTIES OF THIN OXIDES (CONGRUENT-TO-80-A)

被引：8

作者：

BHATTACHARYYA, A ^{[1
]}

BRIL, T ^{[1
]}

VORST, C ^{[1
]}

WESTLUND, B ^{[1
]}

VANROOSMALEN, F ^{[1
]}

机构：

[1] PHILIPS RES LABS,EINDHOVEN,NETHERLANDS

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2108990

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：1670 / 1673

页数：4

共 7 条

BHATTACHARYYA, A .

BHATTACHARYYA, A .

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