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PLASMA NITRIDING AND ION PLATING WITH AN INTENSIFIED GLOW-DISCHARGE
被引:52
作者
:
KORHONEN, AS
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0
KORHONEN, AS
SIRVIO, EH
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SIRVIO, EH
SULONEN, MS
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0
SULONEN, MS
机构
:
来源
:
THIN SOLID FILMS
|
1983年
/ 107卷
/ 04期
关键词
:
D O I
:
10.1016/0040-6090(83)90301-2
中图分类号
:
T [工业技术];
学科分类号
:
08 ;
摘要
:
引用
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页码:387 / 394
页数:8
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HIGH-RATE THICK-FILM GROWTH
[J].
THORNTON, JA
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机构:
TELIC CORP, SANTA MONICA, CA 90404 USA
TELIC CORP, SANTA MONICA, CA 90404 USA
THORNTON, JA
.
ANNUAL REVIEW OF MATERIALS SCIENCE,
1977,
7
:239
-260
[22]
HIGH-RATE SPUTTERING TECHNIQUES
[J].
THORNTON, JA
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THORNTON, JA
.
THIN SOLID FILMS,
1981,
80
(1-3)
:1
-11
[23]
WAN C, 1974, 4TH P INT C VAC MET, P231
[24]
1980, ASTM G6580 STAND
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HIGH-RATE THICK-FILM GROWTH
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THORNTON, JA
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机构:
TELIC CORP, SANTA MONICA, CA 90404 USA
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THORNTON, JA
.
ANNUAL REVIEW OF MATERIALS SCIENCE,
1977,
7
:239
-260
[22]
HIGH-RATE SPUTTERING TECHNIQUES
[J].
THORNTON, JA
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THORNTON, JA
.
THIN SOLID FILMS,
1981,
80
(1-3)
:1
-11
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[24]
1980, ASTM G6580 STAND
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