CURRENT-INDUCED HYDROGEN MIGRATION AND INTERFACE TRAP GENERATION IN ALUMINUM SILICON DIOXIDE SILICON CAPACITORS

被引:17
作者
FEIGL, FJ
GALE, R
CHEW, H
MAGEE, CW
YOUNG, DR
机构
[1] RCA CORP, SARNOFF RES CTR, PRINCETON, NJ 08540 USA
[2] IBM CORP, THOMAS J WATSON RES CTR, YORKTOWN HTS, NY 10598 USA
关键词
D O I
10.1016/0168-583X(84)90091-0
中图分类号
TH7 [仪器、仪表];
学科分类号
0804 ; 080401 ; 081102 ;
摘要
引用
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页码:348 / 354
页数:7
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