LOCALIZATION AND MINIMUM METALLIC CONDUCTIVITY IN SI INVERSION LAYERS

被引:31
作者
TSUI, DC [1 ]
ALLEN, SJ [1 ]
机构
[1] BELL TEL LABS INC,MURRAY HILL,NJ 07974
关键词
D O I
10.1103/PhysRevLett.34.1293
中图分类号
O4 [物理学];
学科分类号
0702 ;
摘要
引用
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页码:1293 / 1295
页数:3
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