TWINNING IN SILICON EPITAXIALLY DEPOSITED ON SAPPHIRE

被引:34
作者
NOLDER, RL
KLEIN, DJ
FORBES, DH
机构
关键词
D O I
10.1063/1.1703014
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:3444 / &
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