THE ANNEALING OF 1-MEV IMPLANTATIONS OF BORON IN SILICON

被引：11

作者：

OOSTERHOFF, S

MIDDELHOEK, J

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0038-1101(85)90103-0

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：427 / 433

页数：7

共 19 条

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