UNDERSTANDING OF OHMIC CONTACT FORMATION WITH GE DOPING OF N-GAAS

被引:6
作者
JAROS, M
HARTNAGEL, HL
机构
[1] UNIV NEWCASTLE UPON TYNE,SCH PHYS,NEWCASTLE UPON TYNE,ENGLAND
[2] UNIV NEWCASTLE UPON TYNE,DEPT ELECTR ENGN,NEWCASTLE UPON TYNE,ENGLAND
关键词
D O I
10.1016/0038-1101(75)90122-7
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
引用
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页码:1029 / 1030
页数:2
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