LOW-TEMPERATURE OXIDATION OF SILICON STUDIED BY PHOTOSENSITIVE ESR AND AUGER-ELECTRON SPECTROSCOPY

被引:21
作者
RUZYLLO, J [1 ]
SHIOTA, I [1 ]
MIYAMOTO, N [1 ]
NISHIZAWA, J [1 ]
机构
[1] TOHOKU UNIV, RES INST ELECT COMMUN, SENDAI, JAPAN
关键词
D O I
10.1149/1.2132758
中图分类号
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
081704 ;
摘要
引用
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页数:4
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