CHEMICAL BEAM EPITAXIAL-GROWTH OF EXTREMELY HIGH-QUALITY INGAAS ON INP

被引:40
作者
TSANG, WT
DAYEM, AH
CHIU, TH
CUNNINGHAM, JE
SCHUBERT, EF
DITZENBERGER, JA
SHAH, J
ZYSKIND, JL
TABATABAIE, N
机构
[1] AT&T BELL LABS,CRAWFORD HILL LAB,HOLMDEL,NJ 07733
[2] BELL COMMUN RES,HOLMDEL,NJ 07733
关键词
D O I
10.1063/1.97214
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:170 / 172
页数:3
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