REDUCTION IN DISLOCATION DENSITIES IN THE STEP-GRADED GROWTH OF INGAAS BY MOLECULAR-BEAM EPITAXY

被引:20
作者
SERRANO, CM [1 ]
CHANG, CA [1 ]
机构
[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598
关键词
D O I
10.1063/1.92565
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页数:2
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