STUDIES OF PUSH-OUT EFFECT IN SILICON .2. EFFECT OF PHOSPHORUS EMITTER DIFFUSION ON GALLIUM-BASE PROFILES, DETERMINED BY RADIOTRACER TECHNIQUES

被引:14
作者
JONES, CL [1 ]
WILLOUGHBY, AFW [1 ]
机构
[1] UNIV SOUTHAMPTON,ENGN MAT LABS,SOUTHAMPTON SO9 5NH,HAMPSHIRE,ENGLAND
关键词
D O I
10.1149/1.2132632
中图分类号
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
081704 ;
摘要
引用
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页码:1531 / 1538
页数:8
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