STRUCTURE AND PURITY OF EPITAXIAL-FILMS OF COPPER AND RHODIUM DEPOSITED ONTO MGO SINGLE-CRYSTAL SUBSTRATES BY GLOW-DISCHARGE SPUTTERING

被引:19
作者
DELPLANCKE, MP
DELCAMBE, P
BINST, L
JARDINIEROFFERGELD, M
BOUILLON, F
机构
[1] Univ Libre de Bruxelles, Brussels, Belg, Univ Libre de Bruxelles, Brussels, Belg
关键词
D O I
10.1016/0040-6090(86)90145-8
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
COPPER AND ALLOYS
引用
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页数:9
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