COMPARISON OF RF AND MICROWAVE OXIDATION SYSTEMS FOR THE GROWTH OF THIN OXIDES AT LOW-TEMPERATURES

被引：17

作者：

TAYLOR, S

BARLOW, KJ

ECCLESTON, W

KIERMASZ, A

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1049/el:19870229

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：309 / 310

页数：2

共 5 条

[1] AN IMPROVED THEORY FOR THE PLASMA ANODIZATION OF SILICON [J].

BARLOW, K ;

KIERMASZ, A ;

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[2]

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ECCLESTON, W ;

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