EPITAXIAL GROWTH OF SILICON AND GERMANIUM (2)

被引:15
作者
LI, CH
机构
来源
PHYSICA STATUS SOLIDI | 1966年 / 15卷 / 02期
关键词
D O I
10.1002/pssb.19660150202
中图分类号
O469 [凝聚态物理学];
学科分类号
070205 ;
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