CONTROLLED FILM FORMATION DURING CCL4 PLASMA-ETCHING

被引：14

作者：

BERNACKI, SE ^{[1
]}

KOSICKI, BB ^{[1
]}

机构：

[1] SPERRY RES CTR,SUDBURY,MA 01776

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2115993

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：1926 / 1931

页数：6

共 5 条

[1]

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