INVESTIGATION OF GENERATION PROCESSES AT THE SIO2/HGCDTE INTERFACE BY GATE CONTROLLED DIODES

被引:14
作者
ROSBECK, JP
BLAZEJEWSKI, ER
机构
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A | 1985年 / 3卷 / 01期
关键词
D O I
10.1116/1.573240
中图分类号
TB3 [工程材料学];
学科分类号
0805 ; 080502 ;
摘要
引用
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页码:280 / 284
页数:5
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