TA-O (TA-OXIDE) AND NB-O (NB-OXIDE) FILM DEPOSITION USING AN ELECTRON-CYCLOTRON RESONANCE PLASMA

被引：7

作者：

WATANABE, I

YOSHIHARA, H

机构：

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS | 1985年 / 24卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.24.L411

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：L411 / L413

页数：3

共 7 条

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