共 13 条
- [11] REED PR, 1972, APPL SPECTROSC, V26, P489
- [12] CONTROL OF PLASMA ETCH PROFILES WITH PLASMA SHEATH ELECTRIC-FIELD AND RF POWER-DENSITY[J]. JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 1982, 129 (11) : 2541 - 2547ZAROWIN, CBHORWATH, RS
SENSITIVE, NONINTRUSIVE, INSITU MEASUREMENT OF TEMPORALLY AND SPATIALLY RESOLVED PLASMA ELECTRIC-FIELDS
被引：141
作者：
MOORE, CA
[1
]
DAVIS, GP
[1
]
GOTTSCHO, RA
[1
]
机构：
[1] BELL TEL LABS INC,MURRAY HILL,NJ 07974
关键词：
D O I：
10.1103/PhysRevLett.52.538
中图分类号：
O4 [物理学];
学科分类号：
0702 ;
摘要：
引用
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页码：538 / 541
页数：4
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