AMORPHOUS-SI CRYSTALLINE-SI FACET FORMATION DURING SI SOLID-PHASE EPITAXY NEAR SI/SIO2 BOUNDARY

被引:47
作者
KUNII, Y
TABE, M
KAJIYAMA, K
机构
关键词
D O I
10.1063/1.333958
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:279 / 285
页数:7
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