THE FABRICATION AND CHARACTERIZATION OF ION-SENSITIVE FIELD-EFFECT TRANSISTORS WITH A SILICON DIOXIDE GATE

被引:21
作者
CHEN, SC
SU, YK
TZENG, JS
机构
[1] Natl Cheng Kung Univ, Tainan, Taiwan, Natl Cheng Kung Univ, Tainan, Taiwan
关键词
D O I
10.1088/0022-3727/19/10/020
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
13
引用
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页码:1951 / 1956
页数:6
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