0.2 MICRON LENGTH T-SHAPED GATE FABRICATION USING ANGLE EVAPORATION

被引:13
作者
CHAO, PC
KU, WH
SMITH, PM
PERKINS, WH
机构
[1] NATL RES & RESOURCE FACIL SUBMICRON STRUCT,ITHACA,NY 14853
[2] GE,ELECTR LAB,SYRACUSE,NY 13221
关键词
D O I
10.1109/EDL.1983.25671
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
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页数:3
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