POLYMER RESIST SYSTEMS FOR PHOTOLITHOGRAPHY AND ELECTRON LITHOGRAPHY

被引：80

作者：

THOMPSON, LF ^{[1
]}

KERWIN, RE ^{[1
]}

机构：

[1] BELL TEL LABS INC,MURRAY HILL,NJ 07974

来源：

ANNUAL REVIEW OF MATERIALS SCIENCE | 1976年 / 6卷

关键词：

D O I：

10.1146/annurev.ms.06.080176.001411

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：267 / 301

页数：35

相关论文

共 68 条

[61] VARNELL G, 1975, COMMUNICATION
[62] VARNELL GL, 1973, J VAC SCI TECHNOL, V10, P913
[63] VARNELL GL, 1973, 12TH P S EL ION LAS, P1048
[64] ELECTRON BEAM EXPOSURE OF SILICONES
YATSUI, Y
NAKATA, T
UMEHARA, K
[J]. JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 1969, 116 (01) : 94 - &
[65] 1955, Patent No. 767985
[66] 1960, Patent No. 2940853
[67] 1950, Patent No. 708834
[68] 1966, ENCYCLOPEDIA BRITANN