APPLICATION OF GAS CHROMATOGRAPHY TO ANALYSIS OF GAS/VAPOR ATMOSPHERES IN SEMICONDUCTOR PROCESSES

被引：4

作者：

NUTTALL, R

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2423808

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：1293 / &

共 17 条

[1] KINETICS OF SILICON CRYSTAL GROWTH FROM SICL4 DECOMPOSITION [J].

BYLANDER, EG .

CHARIG, JM ;

JOYCE, BA .

HAMLIN, AG ;

PHILLIPS, TR ;

IVESON, G .

[4]

JOKLIK J, 1961, COLLECT CZECH CHEM C, V26, P2079

[5]

KNOW JH, GAS CHROMATOGRAPHY

[6] EQUILIBRIUM BEHAVIOR OF SILICON-HYDROGEN-CHLORINE SYSTEM [J].

LEVER, RF .

MILLER, KJ ;

GRIECO, MJ .

NUTTALL, R .

[9]

PALAMARCHUK NA, 1963, AKAD NAUK SSSR I GEO, V13, P277

[10]

PURNELL H, 1962, GAS CHROMATOGRAPHY