THE KINETICS OF SILICON DIOXIDE CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION .3. EXPERIMENTAL-VERIFICATION OF THE MODEL

被引：4

作者：

GRABIEC, PB ^{[1
]}

PRZYLUSKI, J ^{[1
]}

机构：

[1] WARSAW TECH UNIV,INST GEN CHEM & INORGAN TECHNOL,PL-00663 WARSAW,POLAND

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0257-8972(86)90103-9

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：219 / 237

页数：19

共 6 条

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