ION-BEAM-INDUCED SILICIDE FORMATION IN NICKEL THIN-FILMS ON SILICON

被引:16
作者
CHEN, LJ
HOU, CY
机构
关键词
D O I
10.1016/0040-6090(83)90558-8
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
引用
收藏
页码:167 / 173
页数:7
相关论文
共 8 条